プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.34 目 次
Contents
1. E E ps dE as Bg a an e Elm BE BE E as E BE Ee ee SEE Es p oo Y Ee E eE a EEB p oo Y on oo o DE BE BE BB EB Fi BE2. LI DI DI DI L3 L3 DI DI E Cl EREETH EP pase Ar e EHH alot EE _ _ AFAR ar
3. mo m O EEE EEE EE EE ra ce em O ir ET IEE 00 2 EI ES LI LI mo o 03
4. OO 0 p3 LI o 03 EO EO EO LOI EO p3 LI o 03 03 DI ROI EO LOI EO p3 LI LEO EO EO EO E DL po LI 03 LI LL p3 LI 03 03 EO EO EO EO EO p3 LI LILI DJ DI LOI DI LOI LI po LI LL 03 03 EO EO LOI EO p3 LI EDE E EWE E ENE LE E E 1 7 0 BALE game 483 0 UU OU OU UU UU UU UU UU OU OU UU OU UU UU UU f de HHHHHUHHHHH 0 M OU 199 1991 110 01 150 The 199th Meeting of The Electrochemical Society ECS LI
5. eS O 03 03 03 ad 03 03 ao aa aa aa Di DJ 03 03 DI DI DI 03 03 03 03 03 03 Oo O a Da ge BE BOB E a a 5070 s m A raat a do n ooo d OO Ej oS es HAHH E E Ou E ooo d go BE EEB E d qo eo ERR QD d ODE e CEC d Em 3
6. W lt L3 L3 Ei L3 O UU UU OU UU UU UU UU UU UU ad UU UU UU UU EEE EEE EEE oc m EX ESL a E p ze g Ed Os OOO SH OOOO m g Y 2 ven en Id N
7. OOo LIL I TE kan 33 0 0 mm EEE 00450000 FI EEE IE EEE k EEE
8. BET lt ee 55 ra a EI a 5 1 0 00 00 uu OO OO OO E OO OO OO zu OO OU 0 719 http dail ynews mcmaster ca 000 71 http www science mcmaster ca mnr
9. nn nn oa 0 1 UU 200270 UW WO 201 OU UU UU 1 U U 20049297 00000000 0 1007 1 1 gt 00000000000 IIHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH htip www decrochemorg meetings 199 meet hip CS ero sannet ne a oo m mim og onm 1 HOU 000 8708 2001 MRS Spring Meeting UUUUUUUUUUUUUUHUU uu O E O 2001 Materials Research Society MRS Spring Mesing ID 4 1671 0 1 1 1 HEE TEE TEA EEE E EE Hii READER E MW 1 300011 11 1 1 1 1 1 7 7 2 728 1 1 330 8 8 1 888 381080
10. PBH Hi toi 1 EL H ETE HUE HHHHHHHHHHHHHHHHHHHKHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHMRSHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHUHHHOUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH10OHHHHHHHH L LL HHHHHMRSHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHL HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH A Amorphous and Heterogeneous Silicon Based Films 20000 0000000000000 BE U HUHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH1 HHHHHHHHHHHL U OOO Hydrogenated amorphous silicon lt Si H Q OOOOOOOOOO sS fOOOOOOOOOOOOOOOOOOO HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH PECVDH O Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition NO MOD SH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHH Microcrystalline silicon mc Si H O 0 mes bj D UD UD U HHHHHHHHHHHHHaSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHeaSiHmeSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHH EE EP DEBE BE E L BARE EP CE HEISE EE SH 1
11. A DON 6 0 0 80 20 HHHHHHHHHHHHH A ca A A A LI O g O p3 EJ EJ p4 O DI LO O ED E EJ LI LILI LI LI 141110817 L OOO NO 2001 10 25 U O D 120 1 300 000000000 PSS2001 SPP 180 0 U U 2U 0 O 1 H H 1 20 11 1 OU 2 8 110 848 470 EE 778 200IHHHHHHHUHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHIOHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHH 2 13 dul 12 11 2211 4 1 1 1 1 11 7 2 HHHHHUHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHL BO go DO DO 0 0 14 IS 1 4 1SHHHHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHH9eHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHPDPHHHHHHHHHHHHLH HHHHHUHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHLH 15 HHNo33HHHHHHHUH HHNo33HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHA4HHHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHHHL 2000000000000 2011 Je 00 1 1 1 70 1 111 5 FSS 0015 111 1 1
12. Uu Doub uj E 20 UU UU UU UU UU UU L3 DO L3 ED E EE EEE EEE EEE ea CICICICICICICICICICICICICICICI g SHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH LILI LI LI LI UU DDD DOG Lu UU LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI HOUUUO HOUUUO LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI 0 00 0 00 HOUUUO HOUUUO LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI uml um uuu UU UU UU UU Doub Doub OOOO TEED Doub Um L3 L3 E3 OD E23 E3 E
13. OOO DO OOOO ODO DO DADO OD 1 1 11111 1 1 9 101 1 1 8 1 1 1 1 1 1 1 _ 1 10 0000000000000 HA Oo a 111111 7 8 000000 1 U U 2188 0 80 0080800000800 00800000000 OU s5830 O O 1 1950 00000000000 OU 3700000500000 3121 1 000000 0000210000 0 0 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHH 241111111 H HBH DE 3881 E H CDI DO 101 HE 1 TE H IIHHHH UHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 00 1 321 60 120 201 1 1 1 0100070 77 0 0000 0 002 pouou 000 0 00 01 0000 00 08 0727 1 0 0 Jen Shih Chang McMaster ES ENE EP ED E REE ED EE E sg 7 HELE a HELE AM EE 110 8 80800000000 0000000000000 000000000 1000000000000 12HHHHHHHHHHHHHHHHH 13HHHHHHHHHHHHHHHHHHH
14. 0000000000000 20001 2000000000000 4000 100000000000 EN E gaga EPEE 8 250 OO 000000000 000000 1 11 0000000000 000000000000 1 1 1 HUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHIEEEJapan Council NPS Plsma O 0000000200 000000 00000000000 ASEDI 1 1 0 808 808 8 8 AAN E EE ENEE BAE EEE EEEE Eg Ey 88 8 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHH HUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH UHHHHHHHHH4 HHHHHHHH HHHHHH HUHHHHHHHHHHHHHHHH AHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH2HH 8080883083 8 8 LEDU HU E E DE E EEE E EE S HEE HEE HEE 21111 HHE hH HIT BH BP 73
15. L3 Oo OO oO OO Oo L3 Oo L3 102 0073 14H23 00000 62000 L
16. 2 E 01028 1 AAA 1 11 1 1 1 1 1 1 20 DO DO 0000 0000000020180 000000000000 0 4 pp 00000000000 SPP 19 D E H EH BB E E B DD U U U SPP 19 ICRP S O ESCAMPIG 16 77078 1 ICRP 5 ESCAMPIG SPP 19 1 010 oy 1116 1 MOOD UU 200 CU 12 1 1 1 1 U 17 5 UU 1 1 UU 8 1 0 11 1 0 NIS 20 1 1 E 200111 H 11 20010 70 270 0 7 2811 1 ODD 11 1 0 2 3 6 0000000 8F 1087 E E 130 30 290 12 000 13 00 1 33 Informal Meeting 1 0 No 33
17. 8 Ht go A dE ei oo oo ODO Ia OOo d c E a a A OOS 2 gaga Soe E O O O DO O oo oo EEE Oo _
18. EE EE ESTE ES ES Y Dm EEE je aA or EV or LI LI LI 3 4 ELELELELELDLELEL OL TT TL EL T 1 11 1 1 1 11 1 7 0 40 LL 5 1 1 1111 11 11 1111111111111 gt oo Oo o 611110000 7 H 5 0008 0 0 00 00 QO American Vacuum Society oNooooooo 270 5
19. Ex EE OOOO AGB EG OOOO EG ro N LILILILI LI LI LI LI 2100028 0 00 UU 9 3 8 ona 1 11010 70 HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH14IHHHH LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LL LI LI LI LI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI 1 L L3 L3 L3 E ED ED ED EOD ED ED ED EOD ED LC 8010109
20. OO L3 9 y 2000050 HAGON mm OO L3 ES ESL EAS ESL mm o_o Oo 0 0 E mm E oo a E E 0 2 a O Bou A y 2250504 65 5 5 5 6 5 a O g O O a O E0008 E a OO Oo O O HE Ho mo O OO 0 O E ao EI m Ei GEE O a O O a o HCE CODE oo a a O e
21. 1 1 50001 O E E 38 1 1 11 1 1 1 3D D du 31 200100000080 0 0000000000 1 1 5 000 1 00 OD 290 20011 00 0 00000000000 20010 32 2010 ODO D BL HH 30 300 EFE 1 000 3 00 0 000000 No 330 E ET 33 2001HHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHH 20010 UUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUU IICVDHHHUHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHUIHHHHHHHL HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHHHHH L HHHHHHUHHHUHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHL 34 Ju nes EMT N EE H ITL BED SOLET 411 SEE H T HHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHL 35 2HHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHL HHHHHHHHHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHUHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHTELHHHHHHH UU 38 2001 6 23 24JJ 0000000000 0 HOUUU 20 OU 0 09 00000 37 XXV ICPIG 2001 7 17 200 000000 00000 XXV 16 No 33 38 HDD D D BL B u 1 21111 11
22. m 2 3 EE y 220950 O a Lir Cp EEG E 8 mem pon TEE 5 5 oo mm HE OOO DONS oo 20000052 Sam A CEI OO OO 6 8 or a BEBE ooo yoong yO Saa 2000000040 44 PO 8 P OE E EEE ee noo HE E y 3 aje lt IEEE E OOS EE e po e o en a em a 5 51 Se e Em ma m EE AA cco me A LILI LILI LI LOI LI LI LILI LILI LI LI ELE E ERE E 5 11 EE SCAMPIGO 0 O DI O O O Lillafuered du 0 811 1 1 DO DO DO
23. 80 8 OO SCAMPIGI 1 E 0 0 U Plasma Sources Science and Technol UUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUL OU E ICRP ESCAMPIGHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH E OO o 3 3 a 6 5 m l m d 6 O y DEI ad 3 5 EEE Oo gos r3 L3 ooooooof oo Oo MM o 3 LA OO a r3 pH EEE 58 8 0 goss A EST EEE EE Ona ag 8 6 SE m FE ec no x EREB Ej of zu a FIFE FEE MPIGO G Kroesen Eindhoven N Sadeghi Grenoble S de Benedicts Bari W Graham Belfast JUNO H Stoeri Vienna J Loureiro Lisbon G Musa Bucharest Z Petrovic Belgrade J Skalny Bratislava Z Donko Budapest K Wiesemann Bochum G Kroesen Eindhoven Z Petrovic Belgrade J Skalny Bratislava N Sadeghi Grenoble K Wiesemann Bochum
24. ga ao el 8880888938 8008 8 1 980808 80980808 8881888888089880 0 08818 8889 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHL EEBLELET GE EEE VEE BIETET BEP EL EVE EEE EIER EEE EP EP EE ECT EEE 80887878080 HH 8 8 9 80 38 ee WE Ph EEE B EC 1 411 H 8888 8888100888 8 828 8 8 da dede H ON HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHL E 7 70 8 ER GL EL EV EDEN hH 1115 1 111 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHL 8 EERE A EE EEE ENEE EP EE EVER E EE E HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHL 80 EMEC EL EEE EE EE RE OO DO EEE LEU 0 70 DD ODO DO EUER GT A a P O E EEE ERE EE EEE EE E AO AI Ge a 98 Hl H
25. EL EE 5 EEE E 0 0 AOA KS uz m as on soe FE EEE E HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHLH Uu Uu PAG 13 RMSE A NC Bil Ee OLE BU DEEDES RHB HTH 0 07287 Ar CCP O Stochastic Heating D U U U U 0 U Joule Heating O Bi Maxwell O O U Maxwell O U O Druyvesteyn O U UU OU JE O O E Maxwell O Maxwell uu UU uuu uuu 00000000000 UU U 020 O U 0 1 0 510 OO ACE O U U 0 03 0 1107 CA U 10 OOO OD D D UU Maxwell O O 00000 OJ 1 1 Ar CF4 CCP U ICPI DU Maxwell Ar CF4 1 1 O ICP Ar ICP ICP OO To 0 D DH U OO EEDRDO OU Maxwell 1 1 D E U D I EEDE A m pct L LPH 11 11 1 1 1 1 1 1 201 ET ENE ERE GE EV
26. E 0 0 HOUUUO HOUUUO ii EEE O 12 1 OOO 40000000 ODS OOOOH U HET EEE EEE EEE EEE FEE EEE FEE p3 LI pop OOO LL Eo oo oo oo oo ca a e nm EEE c4 6 Bs ia SASH E ria 8
27. H 102 0073 TUUUUUUUHUL23 00000 TEL 3238 1043 FAX 8 divisions jsap or jp D 00060 Eta EYE EE 29200 mii Oo E E 29200 Oo EE oo E O gt Er EIE 29200 a ls GEE E oo EE oro AR EG oo Hmm No 34 000000 oO lu goag EEE TT Hmmm E ELE EE I DI LI 1 DI A O DI DI LA LI I DI DO DI DI LI LI CICICI Do Do DI DO DI DI LA LI CICICICICICI DO DI L2 LI No 34
28. as ETL EEE CN CN L 7 H ED Oo Og o on FEE 0 LILI LILI 808 7 00000 702 g g aO A oT p3 Oo DIDI Ej Ej E EEE EE
29. A CN L3 E23 L3 L3 E LI LI LOI LOI DI LI LI LI ID U L3 E23 E23 L3 E LI LI LOI LOI LOI LI LA LI LTLTLTLTLTE LILI aadd LLL L LTLTLTLTLTE LL O Odd LLL L3 L3 LI DI 1 70 L3 Oo E23 Do E23 E23 DODO DI Do E23 E23 L3 L3 Oo E23 Do E23 E23 L3 E3 E23 P3 L3 E3 E23 III Oo E23 Do E23 E23 II A Oo E23 Do E23 E23 L3 E3 E23 L3 L3 A Oo E23 Do E23 E23 L3 II A Oo E23 L3 Oo E23 Do E23 E23 L3 L3 Oo E23 Do E23 E23 L3 P3 E23 O
30. ODO 1 1 1511 000000000 No 33 2000 12 001 6 23 24 11 13 88 8 0 ENE B HTH 2306 89 22000 10 0 20010 DD DO DO DO OOO DD DD ODO DO DDD OO DD TEA TEAU 7 1 0 0 00 200 14 2001 HL HL DL BL LO HOD 00 0000000000000 0 20010 11 ODO 0 34 TE EE H 4 5 6 U DJ 2000127200 00000000 HE EL 1 1 0 331 za 8 9 11 UU 8 GOO O FSE AEPSEQO01 10 28 11 1 Y 000000000000 20010 No 34 01 DODODO 3 gt 16 0 190000020 1 1 QOUDODO 2 0 QOUD 1 70 20020 ICRP SJESCAMPIG D D 190 L 200 20030 10000000000 00000000 000000 0000000000000 15 2000 O 1 00 000000 BEBE BEBE
31. a S an EXE GS a Bo BE Om DE ER 106 BE Ra D mA a AD GA oo So SS O El EBEN BE oo Se D OB a sa GG oo So Do oo BODE 61 EX EB eb ERE Exo DE E Dec BE oo oua Seele HE Oooo EET ENG EEE se 3 gogg H HAAA oOo HJ LH E93 EH EJ vV G o L3 d E3 L3 LLL 1 0 1 ul E3 OU Bag LIL LIL 5 idad hA Om 0 0 DpglDODDDDpDODD DD DO DI DpglDODDDppDOD DI DI LL DppgoODDDODpDOD DI D DI DD g oOo aA a A aAa A A ao L3 L3 Do a LI A LI FEED EE H EE PH H TH LE PE EL EL ee On o LI LI LI EJ ESL EJ EJ L3 E23 E23 aHa go AA A A A um EEE KE o d LI LOI LOI LOI LI L3 E3 C3 DODDD DO EJ W DESSAS OO Oo OS gH O I DOOD OOO OIE d LOI LOI LOI SS SE Go a LE ecce EE a ee
32. EVE EE EEE EEE g EL ESI om rr DD DD rr ma EET L3 35 15 o 03 E DJ DJ DJ DI DI EO po LI LI N LI LL d DO 03 a A LOI LOI LI LI LI LI NUUUUUUUUU mnm 3 LILI LOI KO KO KO LOI LOI LI LOI LOI 03 03 o o o d ad LOI KO LOI LOI LI LI LI LOI 03 LOI KO LOI
33. 51 00000000000 1 139 1 1 0000000000 HHHHHHHHHHHHHHmeSiiHHHHHHHHHHHHHHaSiHHHHaSiiHHHHHHHHHHHHH 15AHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHNECHHHUHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHH as HO O mcSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH Spectroscopic Ellipsometry SE O00 U 0 0 O U infrared Attenuated Total Reflection spectroscopy ATR 1 1 1 1 U U SEU O H O 3311 5 6 H A O ATE 1 CEA 1 1 BHH ATRO 51 1 1 11 51 1 07 7 SHO OO meStHO II 1 1 1 1 000000000000 0 0 as a AES E U J E 7 01 1 201111111111 0 000 0000000000 HEEE EE 8 8888880888 8 p 1 1 1 1 1 1 1 70 HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHUHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHrmHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHaSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHnHHHHH2 1 8 eSi HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHaSIEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHaSEH aSlGeeHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHIHH 000 1000AHHH
34. 9 OA gan E gem img d Ze ec Gee E FE d co ma n jo ea HEE E rj ie ooo O E mo So BE See E co On E AA BB 86087 E DEC rn OD d OW TO ooo O 3 0 2 POD m a OII o onon ado SOOO ADDIS E OD d OO oO onon ado 22 2 Ez nun d 3 onon ado y mI 80650 GER OO ado y Sm
35. ao a a aA ES oOo ao ag E ooo ao a E oOo ao ago a aes ao a ao ag ETE E DEE d ee EI EEE OGL a EE So EE ESTE E co E EE EE E pc A EI e A A e A OOOO EL Eu ps EE EE A EEE aA GGL OOOO GGL OOOO EAT EEE EE EEE EE CITE EEE OOOO GA Er aj F EE OOOO ae FE EEE EEE EEE EEE OO Ci EEE oo EEE ODO DO 7782 0 0 ma Physics and A pplications
36. E3 E E E E L3 L3 uu uu Doo HUD Sr O EE E ER OO S E oo og BET pit pg E EE ata s DT pim pup mp mo Do apa y a O O Aa Dei oan es or SS E E E DEE oH ab 565 OOOOH HE 5 ra juz a ES Ea HE ge ee E em male ea EEE am E LL EX EJ HE HE E Oo a 7 oe e S oo Se EEE Oo oO P oo V
37. uu Napartovich Troitsk HH UL POO O atoll 0001 HOU Doub Doub 0001 LILI LI LI LILI LI LI LILI LI LI LILI LI LI LILI 2 mulu uml LILI LI LI LI 1 TELD http www kkr or jp hotel hote s kamekura htrr r cri melco co j IU 280 2000013810 17 20010 HOUKKROO 0000000 0 040000000 20011 0 0467 25 4321 HHBH HA D LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LL LI LI LI LI LILI L3 LOI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LOI LI LILI LI LI
38. E od LI LI LI LILI LI LI LILI LI LI LI LOI LI a LI LILI LI LILI LILI LILI LI LI LI LOI LI L3 LI LE pj H HH LILI LILI LILI LILI LI LOI LI DIA LI LOI LI Da LI LILI LI LI LILI LI LI LI LOI LI a LI LI LOI LI Da LI LI LOI LI Da LI LILI LI LI LILI LI LI LI LOI LI a LI em ox pap E LL LI LI LILI LILI LI LOI LI a LI LI LOI LI Da LI LILI LI LI LILI LI LI LI LOI LI a LI nmbra LILI a DO LOI KO LOI LOI pa LI
39. http www jsap or jp plasme 000000000 0 0 0 00 0 e mail hamaguch energy kyoto u ac jp 11 UUUUUUUUUHUUUUUUL HHHHHHHHH 0000 D 141 0 LB 7 1 0 O O E http www jsap or jp plasme II 0 8 LO E 8 o Oo Do D o m ppp E e x2 o OO OO 0 n r ES E Oo O a Os OO Eg OO a Oo OO 0 o OO 3 O m mm Io Er m O a El EJ sto E E E E Ea 3 OO Ej 02 3 3 m O a r3 Bon a m Er Jak ee og L3 p m 2 L3 ED 09 E 36 oS Ger BOSE eo E E ada Oo yc m E q E y c 25202 2 5052 E E oog Ek E SER EE no E ao O SERES E m L3 Em OO gt a gre FED E ENDO LENS E x E cc EE Sac e luc
40. 00 o al HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHH 20010 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHIMHHHHHHUHHHHHHHHHHHHH No 34 20016HHHHDUHHHUHHUUHHHHHHHHHHHHHUH No34HHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHA4HHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHL 0 100 0 0 0 31 1 1 80 12 8 8 8 8 B HIH NENE E ME DE 8 20010 1 180 20180 MOD0000000000000005830 0 E 1 11 1 1801 2001 01 111 DIA 11 TL 1 EEEE 3670 7031 15 No33Q 000 11 1 1 97 1 1 1 11211
41. 5 S i es ee Ne Me 39 0 50 O n 1 Dd 1 1 DU 0 0 0 0 0 0 00 0 0 0 au E oF m r3 r3 m DO r3 m r3 r3 m r3 o oF m Oo 0 n A VE ooo a e sel Gele oO EIE E 5 oO E Ej a EE a O g 9 5 4 F Oo L3 Oo E 5 ao E E E m Oo 20 E E Oo 20 a L3 Ei ao Oo 20 E E Oo 20 E a a ao E E a m 5 y LH A 1 0 oc E A Bie E E ES y Eu SOOO S y gamma EB y PO a DE EB EEE Ss da y y nooo EE DEC E COCO
42. e 0 0 ES S ma o oo OD AAA E AAA EE GOG O EE r1 a tir jj a NN HE e ESI EE EEE a
43. http engphys mamaster ca 0 00 2nd ICMI 6 10 Juno O 3 O 3 pe E FEE ee E o E Ds CF O 3 E O 3 O 3 LL EO EO EO EJ po LI LL LE EO EO EO p3 LI o ad d 03 EO EO po LI LI 8 po ro zl OO ea an E 111 or la au ll pan om a os e ETE sl SEM El EL EST Ex E EEE 0 So Do mnm 2000 Oa O onn LE 5009 ana O 0640064005 Cos SO
44. 1 000 78 HHHHHHHHHHHHHHHHHHmceSEHHHHHHHHHHHHHHHHaSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 8 0 ERE O 3 16 0 5 mesig aSi HI 1 1 8 U PECVDII I H I D 1 HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHmeSiHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 1 00 HHHHHHHHHHHHAHHHHHHHHHHHHHHaSEHHHHrmeSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHPECVDHHHHH I D D D 0 HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHWCVD H HotWireChemca Vapor Deposition HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHWCVDHHHHHHHHHHHWCVDHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHWCVDHHHHaSEHHHHHHHNRELHHHHHHHHHHHHHNRELHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHWCVDHHHHHHHHaSEHHHHNMRHHHHHHHPECVDHHHHHHHHaSiHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHaSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH reSHH O HHHHHHHHHHHHHL HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHaSiHHaSlGeHHHHHnceSEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHPECVDHHHHHHHHHHHWCVDHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHaSEHHH HHHHHHHnceSiiHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHLH 11 78 0000000 464 8603 000000000 el 052 789 4420 Fax 052 789 3164 email hori nuee nagoya u ac jp 980 8577 0000000203 1 d 022 217 5
45. 8 A 0 20 CVDOUUUUUUUU 1 0 08 ooo HHHH HE EE SR OS ORR UU 0 101016 07 00 08 30 09 00 09 10 09 15 11 45 NECH 11 45 12 00 000 11 50 12 12 50 15 Lu 15 30 18 0 U D 18 00 19 19 30 21 07 00 08 30 09 00 11 30 gn 1 1 1 8 0 1 11 0 706 00 1 8 O O 300 400 0 am 808703160 LILI LI Dy H H L 1 L1 Coo Ep et LILI LI LILI LILI LI LI LI LILI LILI LI LI LI LI LI LI 192 0397 TEL 0426 77 2
46. 88 0 U O O TRG OES OOOO DO DO DO L LI LI LI LI LO ODUUUUUUUUUUUUUUUUUU 0 ion and electron parameters in an Ar SFg plasma J Appl Phys Vol 84 pp 2450 2458 1998 EEE E 3 K Ohe K Kamiya and T Kimura Improvement of ozone yielding rate in atmospheric pressure barrier discharges using a time modulated power supply IEEE 2 T Kimura and K Ohe Probe measurements and global model of inductively coupled Ar CF discharges Plasma Sources Sci Technol Vol 8 pp 553 560 H 0 000000000 0000000000000 0000000000000 00000000000 1999 1 E Stamate and K Ohe Determination of negative Trans Plasma Sci Vol 27 pp 1582 1587 1999 4 A Oda Y Sakai H Akashi and H Sugawara One dimensional modeling of low frequency and high pressure Xe barrier discharges J Phys D Appl Phys Vol 32 pp 2726 36 1999 5 T Kimura K Kaga and K Ohe Gap length dependence of electron energy distribution function in low pressure Ar capacitively coupled RF discharges Jpn J Appl Phys Vol 39 pp 1351 1357 2000 6 A Oda H Sugawara H Akashi and Y Sakai Estimation of the light output power and efficiency of Xe barrier discharg
47. CD 1 1 BL 7C CD 200IHHHHHHHUHHHHUHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHUHHHHHHNo 34HHHHHH 16 IL EVE 1 1111 72 HHHHHHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHUHHHHHHHHHHHH UU 19 DDD XXV 25th ICPIG 2001 7 17 21 0800665 0 D 20019 40 210 D 13 300 17 30 000000 8 01 50 7 0 1 3 ICRP 5 ESCAMPIG CRP 5 ESCAMPIG HOU UU 6 23 D 241 2 0 00 0 1 1 Os uu D B Award 000000000000 U 2001 110000 0 30 0 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHL HHHHHHHHHHHHHHHHHHH 200 ICPIG 2HHHHHHHHHHHHHFSE2000HHHHHHHHHHHHHHHHH 0 00 2111 FAX 0264 48 2874 Um 397 0201 00000000 3159 25 131 1030000080 1 0 000 TEL 0264 731 mail OO C O l F 20 000
48. E mail tochi ges plasme 8h SummerSchool htm Wwwv sap or M0 a 0000 EHH Fa Cl HOU appulit E n lo Q la r3 Qu m cg ch ho SO mo A 1 1 1 1 00 708 OO 0 OO OO m L3 x O pz Ed ooo es 1 osa O og 00010 001110010 15 10 15 25 OU 1 BOO 00010 7 HPU HH I OOOOOOOOOOOAOOOOOOOOAOOOOOOOAOOO Oo 1 DO OO OO DO OO DO Dr 0 00 EEE
49. HLH E HEEE DEDE BELE EMBEE O EEEE EPEE E BRE E BEE AM ada HHHHHHASEIHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 8 I lI O Engineering Research Center 110 AU 8 8 8 8888 805088 858080 EEE E MEE BE ep ED 0 8 8 UUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUULU EEE EPEE Eg EE Eg GO 7 0 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHL ke EER A BRE e E ETE B ETAT A 1110 728 DO ODO LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LL LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LILI LI LI LI LL LI LI LI LI LI LI LI LI LINE mu mu Lu Lu UU UU UU
50. goo 9 5 9 gt SO 1 aaa fa a TES E ET EEE ooo ES ES m 5 1 E IIIA Em 000000000 8 oon ES ESTE ra E EE
51. 03 03 03 03 03 DI 03 03 DI a DI DI DI eles ae E EEE oon Eel cc cc tT o
52. 23 E23 X ODO 000000000000 00000000000 0 000000 LLLI CI 8 awa index htm LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LO LI LILI LI LI LOI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI LILI LI LI LI LI ieberman Principals of Plasma Discharges and Materials en LI HHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHLH 000000 1 Determination of Concentrations and Temperature of Charged and Neutral Species in Plasmas Bell Laboratories Lucent Technologies Dr Vincent M Donnelly 2000 119 2 1 1 1 1 1 00000000000 0000000000000 0000000000000 m EA aoa
53. 240 Fax 022 217 5240 email samukawaQifs tohoku ac jp FAX 0492 39 1351 email ichiki eng toyo ac jp 5714 85020 0 0000000 2 7 e 06 6905 4303 Fax 06 6905 5204 email okumura ped mei co jp e 042 771 4267 Fax 042 771 0886 e mail k kinoshita ct jp nec com N 1528551 000000000 2121 03 5734 2611 Fax 03 5734 2655 e mail nkouchi chemtitech ac jp 1030 000 00 24 0292 ag 046 291 3099 400000 Fax 046 291 3093 046 242 6089 email mikiQee kanagawa it ac jp N 812 8581 0000000 6101 e 092 642 3950 Fax 092 642 3973 email siratani ed kyushu u ac jp e mail takaki iwate u ac jp 0 192 0370 000000000 1 8 4 Fax 0426 77 2756 e mail tochi ed metro u ac jp N 4328561 00000 1 Tag 053 478 1081 Fax 053 478 1081 email tmmagat ipc shizuoka ac jp 183 8508 0 0 5 81 dl 042 334 0240 Fax 042 334 2112 email nogamih ccgw anelva co jp O 611 00111 DU al 0774 38 4431 Fax 0774 32 9397 e mail hamaguch energy kyoto u ac jp 640 8510 O00000 9309 1 Tag 073 457 8154 Fax 073 457 8154 email ito sys wakayama u ac jp 840 802 O00000 Li Td 0952 28 8646 Fax 0952 28 8638 email ohtsu ep ee saga u ac j p 22 8522 0 000000000 al 045 770 3689 Fax 045 770 3578 e mail kurihara amc toshiba co jp 305 004 ponpon 11 AN D Tel 0298 51 3354 ext 2503 7449 e mail KOMATSU Shojiro nims go jp O 464 8603 10 Fax 052 789 3932 e mail sasaki nuee nagoy
54. 708 O J 0 E U Gaseous Electronics Conference GEC E E E EL E UU U U ut UU 000000000900 ICRP 5 Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases 16th 1 OD UDO DO UU 00 O ICRP ESCAMPIG ne session Parallel session 1 HHHHH 0 0 0 0 International Conference on Reactive Plasmas ICRP 0 0 0 000000000090 0 OU UU 8 Commune session I 0 1 0 450 x 100 0 Parallel session 0 O O 30 x 120 0 Hot topics session 19 x 16 0 uut uuu uuu Workshop 2 x 270 Physical basis of plasma chemistry and plasma surface interactions Production and control of reactive plasmas Discharge physics sheaths transport processes and modeling Etching cleaning and deposition Plasma diagnostics Laser and particle beam assisted plasma processes Poster session 270 x47 00000 Atomic and molecular processes in plasmas Particle energy distribution functions Environmental and other applications 5th International Conference on Reactive Plasmas and 16 Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases ESCAMPIG O O O ICRP 5ESCAMPIG 16 DOG 00102 Novotd Atid 0 ICRP ESCAMPIG O E E D 0000000 HHHHHHHHHHHHHHHHH ICRPESCAMPIGHHHHHHHHHHHHHHHHH
55. H 1407710 200778 210 000000000000 2200000000000 2300000000 240000000 3 HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 319000000000 320000 XII 330000 3400000000000 EEE EEE EE IIHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH ppaaggas HHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHH DEA EO 0400000000000 50 20000000000 40 3HHHHHHHHHHHHHHHHH 42 40000000 3 30000000000 22 00 7 l 22 200000000000 oll 8 1 710 19 EN EE EE 02 77 111 1000 0000 000000 6 10000000000 29 12 1 8787 el HH 00000 po0000000000 U PS5 2001 5PP 187 0000000 B0000000000000 0000000000000 0000000000 1 1 1 1 1 1 1 808 30 9 7 HH 201 21 E ENE E EDE BE PHH EEEE EEA ENA EENE 111 E 0 0 HHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHH HHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHH HUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH H 2004HHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHHHHHUHHHHHHHHHL EEE EL EET ED RE BEE EME EE gi Ge PBH H H HB Mede ane BHH 1 1 A40 000 8001 11 author serail onoGk
56. HHHHHHHHHHHHHH 90x90cmfHHHHHHHHHHHHHHHH 11240 0 4 0 1 IIHHUSSCHHHHHHHHHHHHHHHHHHRFHHHHHVHFHHHHHHHHHHHHHaSIEHHHHHHHHHHHHHHS5S102 HH D0 000000000000 RFO3Aseg 0 8A sed HHHHHHHHHHHHH HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHaSiiHHHHHHHHHHHrmeSEHHHHHHHHHHH3 HHHHHHH 10 0 1 1 11 I I DO 0 1 7 7 1 17 OO 7 MO 1 siHOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOOO mes A0 000000 1 HHHHHmeSiEHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHnmeSiHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH PECVDH HHHHHHHHHHHmcSiiHHHHHH 2x1016qm3HH 60 AsedHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH mcSi HH ELTE EE EET HH E BEER EV EE EP DE UE BIER DD UDO 5 1 UH meS HI II 1 1 3 1 IB U U U 000 meSi H 1 mesi hip 000000000 1 1 1 60 1 gg 0 1 go 7
57. HHHHHHHHHHHHHHHHH Noa 000 10 O la O O O O 2nd International Conference on Microdectronics amp Intefaces 0 16 The 199 Meeting of the Electrochemical Society 18 2001 Materials Research Society Spring Meeting NOOO 20 HOUUUUU 23 00 0 25 200111 00000000000 0000000000000 nuu Z 200111 00000800000 0000000000000 ooo 28 HOUUUUU 000 00 0 30 DOUD 32 3 132100000 1 DOU W 1 34 ES EVE E DI LI ETE EE o a EE DI LI COCO o080000000000000000000000 A o 200111 710 43 2010 4 6 gt 44 12 1 iu 45 1100 770 CU 1 U XXV gt ICRP 5 ESCAMPI G 16 SPP 19 eoHHHHHUHHHHHH 2001 21 3 1 0 34 10 001 46 UU UU UU 4 P 1 DOU S 0 55 56 ARA ga EDE 0 00000 0000 EENH EEE a BABS hhi B 1 8 9 1111 Hd 108 HH 08 1111 1 0 EME O AAN hiii Ti B EERE Dee Po Gn 8
58. HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH2OOTHHHH2HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 0 201 1 1 1 1 DU IIHHHHHHHHHHHHHHH EOE 8008098 08080888 E EVE ERED PORTET ML EAE E ODO Th p hi ii DO is api lID bli T Ph Co Co 8 IlHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH llHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 000000 HH O 200175 498 O 0 0 0 4000 000000000000 0000000000000 0000000000000 08 EE EV EME EE EEE EE EE 0000000080101 11 11 0400000000004 EEE BS EE 27 1 1 ng 1 1 241 1 1 11 11 11 1 0 HHHHHHHHH U ODO T B E 1111 1 pH 1 11 11 0380008000000 000000 000000000000 00000000010 00000000000 00000000 DOC 312 8000000 0000 00D ODO 00D AS E E 14 111111 0000 00000000000 0000000001700 1 gg 0
59. LOI LI LILI LI LI LI LI Chairman Vice chair 00000 00 HOU MIN 6 23 6 24 HHHHHHH 2001 ichki eng toyo ac jp 000 U tochi eei metro u ac jp U U HOU 0 0 00 EL 0774 38 4431 FAX 0774 32 9397 e mail hamaguch energy kyoto u ac jp O O ASETO UL OD UUUUUUUUU DOU el 06 6497 7095 Fax 06 6497 7288 E mail oomori apr cri melco co jp HOOD XXV ICPIG International International Union of Pure and 2001 onference on Phenomena in Tonized Gases Physics 2 18 02500000000000 15th International O00 0000 2000 Symposium on Plasma tatibana kuee kyoto u ac jp 12 31 Chemistry ISPC 15 he 15th International acuum Congress TEL FAX 022 217 5240 Samukawa ifs tohoku ac jp U 230 11111111111 11111111111 TEL 03 5821 7120 FAX 03 5821 7439 e mail dps mbh nifty com LO B B EIL T 7 15 7 18 on Reactive Plasma and 16th 6 1 1 1 1 LK amp Molecular Physics of TEL 052 789 4698 FAX 052 789 3150 Ionized Gases toyota nuee nagoya u ac jp ICRP S ESCAMPIG 16 1 EEE 2001 01 U U
60. S 8 CODE IET ES ET EE EI D D 131 U U 00 1 00PM 2 00PM H DO BH D ANNEAL Corporation B 0 0 0 00 2610000098 8 10 UU 3 HE ao a a aA ao ago ao a a aA EZ ao ago a o ES a a aA A oOo EE E
61. UUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUUHUUUUUUULU I LILI LILI LI LI LILI LILI LLL 03 LOI LOI LI LI ELE EE ELET DA SEE EEE EV EVE bh ERE E 00108 O L3 L3 DO DI E23 E23 DI E LI LI O L3 L3 L3 DI E23 E23 DI LI LI LI UTERE od E K e 4 leeren berger FE 1 the erum ze LEO PA TATI UU UU 270 Lu EUM UU HHHHN Lu 040000 0 DD 000008
62. a u ac jp 606 850 11 0 00000000 el 075 753 5983 0774 38 3966 3967 4 3 Fax 011 706 3423 or 011 706 4916 email date cme hokudai ac jp 664 8641 100000741 al 0727 84 73541 0 0 0 Fax 0727 80 2675 e mail nfujiwar lsi melco co jp 0 253 8430 0 LJ DO J LI I I 2500 e 0467 89 2050 Fax 0467 57 0898 e mail nmizutan ulvac co jp 185 8601 0000000000 0 1280 al 042 323 1111 ex 2143 Fax 042 327 7708 e mail yokogawa crl hitachi co jp UO 131 0 00000000 1 12 1 0 11 1 727 201000 U L D NEC x 88 HD 01011 0 0 0 0011 131 71 14 1 220 1 21 111 1 0 1 1 1 1 1 1 7 p PC 1 SPP 19 2002 7 15 18 0 0 00100 LI UDO 0 DUO ICRP YESCAMP VDHHHHHHHHHHHHH 2780 000 HOC 200 HU U 3 Mo ooo Bono de E EEE Elm r3 ee Don 0 SS mo Se Bar Es o ooo non r
63. c ERREUR FEM snsc E asso EE ced pec A L L3 P3 DD HH D OD DD LIETETETIE OL TIL EIETETETETETEJ to oor m TE sa R a DJ DJ aa aa aa aa aa a Su aa IS O A IS O LILI LI LI LI CIC L 0 gt O no c c c pria Fagg 6 mms amp YOO O O Y 15 05 15 20 5 15 20 15 55 ImstuESRO 30 6 15 55 16 30 JRCATO OOO 70 OU E CCI CI e LL
64. e excimer lamps using a one dimensional fluid model for various voltage waveforms J Phys D Appl Phys Vol 33 pp 1507 1513 2000 7 K Kaga T Kimura and K Ohe Spatial profile measurements of charged particle in capacitively coupled RF 13 56 MHz oxygen discharges Jpn J Appl Phys Vol 40 pp 330 331 2001 8 E Stamate and K Ohe On the surface condition of Langmuir probes in reactive plasmas Appl Phys Lett Vol 78 pp 153 155 2001 9 E Stamate and K Ohe Probe diagnostics of electronegative plasmas with bi Maxwellian electrons J Appl Phys Vol 89 pp 2058 2064 2001 10 T Kimura and K Ohe Global model of inductively coupled Ar plasmas using two temperature approximation J Appl Phys Vol 89 pp 4240 4246 2001 tua re U RTT 20017 187 CETTTTITITITITITD O U U 0060 Lulu 000000000000 2001 0 1811 U U U Plasma Science Sympo sium 2001 The 18th Symposium on Plasma Processi ng OU PSS 200YSPP 189 1 O O O 20010 0 O 130 10 240 31 000000000000 IIHHHHHH2OIHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH HHI 1 1 E EME TH aa ELE es 83 8 P AERA BNE EERE BEN E EME BC EE AEE 8 Hz2HHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH IIHHH
65. em E Ee G 3 222252 o BOGE BOAO g o E Ed Exp CEE Oo m E OO a SEXES oc 53 a O E HE DW E Eb V le ER re p E O O Base Don Ee E m E E L3 mj EE m ELS A E cg o E lt o 2 Coo OO E EN 0 o E O OTA Iso OO E Ei y o 2 E SG Ea mj a E asa LIE y d o Has a BEI DES 5 uH ao a See atan 2 a oo a EE EXE a dene En L3 m 2 Ooo oS o O Ea OOM del Vene 85 O E gA O EE O 3 ogon o o 0 H E EEE o DO DO o gt g BEE O E
66. rr IE EE dep vo a ANE A pp Ye Er E Be jE EE ae Beso Es r3 EE EE CEE es om a ooo Hama noob EM i ane O CE BE EE Ba e E A ES ra taa ee E E E En ooo ou EE EV im o Eh Sean AAS Sees poo as OS GAARA AES Sma HM Soccer OOS E ee ba EE ES Hu AAS ape ae EE EE gan E E TE VE E EE EE dan as E a I E e Lic m ee So nnan ab OE Ss cons i Dec aS E EEE eee ES aaa AAS Sec JE a EEE Be ooo Serie AGE ee as ess abo 56 E E gt 00000 ogo HR SAO EE a a ea aa ea a EE EE tii EE EE E Et TETU ELA qp E E oso 5020 ooo EEE EEE RE ooo O cara cacacaca rn ooo co LI LI o g L3 E ED E EO E
67. uaero kyoto uacjp 1 00000 Department of Engineering Physics McMaster University Main Street West Hamilton Ontario 1 85 4M 1 Canada 1280 llHHHHHH UUUUUUU DOUDOU 1 6 8 wma g 5 m or Or Or 9 m m or Brockhousd 00000000 LI So Fm VO jo 1 Co Bo QO 1 0eVHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHHH 108 108 31 1 0001 1 HIH 0 770 HO 1 UU POWER SUPPLY 1 To ELECTRODE REACTOR DO Ce Cra NFO 1 107 PREX GLASS 5 FERROELECTRIC PARTICLES DoODDUL 00 0 10 FT IR Fourier EE ooa a ES EEE FE EEE Ses ooa ooa a CI ooo ooo ooa EEE a FEB ooog ooo H ooo ooo p H ooo 0 ooo 0 08 0 08 0 0 8 I L3 E23 DI OO CS
Download Pdf Manuals
Related Search